半導體技術新進展：璞璘科技交付首臺步進納米壓印光刻機

【璞璘交付中國首臺半導體級步進納米壓印光刻機，支持<10nm 線寬】8月5日訊，璞璘科技PRINANO今日宣佈其在8月1日成功向一家國內特色工藝客戶交付其自主研發的中國首臺半導體級步進式納米壓印光刻(NIL)系統PL-SR。璞璘在PL-SR系列設備上成功攻克噴墨塗膠工藝多項技術瓶頸，實現了納米級的壓印膜厚，達到了平均殘餘層<10nm、殘餘層變化<2nm、壓印結構深寬比>7:1的技術指標，可對應線寬<10nm的NIL工藝。璞璘科技表示其PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設備目前已經初步完成存儲芯片、硅基(oS)微顯示器、硅光(SiPh)及先進封裝(AVP)等芯片研發驗證；其最小可實現20mm×20mm壓印模板均勻拼接，最終可實現12英寸晶圓級超大模板。