阿斯麥EUV光源技術新突破對芯片產量的潛在影響

【阿斯麥揭示EUV光源技術突破 有望在2030年前實現芯片產量提升50%】2月23日訊，據外媒報道，阿斯麥(ASML.O)的研究人員表示，他們已找到一種方法，可提升一款關鍵芯片製造設備光源的功率，使芯片產量在本十年末提升高達50%。阿斯麥是全球唯一一家生產商用極紫外光刻（EUV）設備的公司，該設備是臺積電、英特爾等芯片製造商生產先進計算芯片的關鍵工具。阿斯麥負責極紫外光刻的首席技術專家Michael Purvis在接受採訪時表示，“這並非噱頭，也不是那種只能維持極短時間演示的把戲。該系統能在完全符合客戶實際使用條件的前提下，穩定輸出1000瓦功率。”