光芯片製造技術的新進展與市場影響

【芯片製造有新突破 光芯片壓印，成本僅DUV的1/10】6月7日訊，6月5日，璞璘科技發佈消息稱，公司與深圳力策合作採用真空氣壓式納米壓印方案實現8英寸光芯片量產突破：依託璞璘科技自主研發的PL-AS真空氣壓式晶圓級納米壓印光刻設備，配合定製化雙層壓印膠材料體系與核心工藝，完全繞開深紫外（DUV）光刻路線，成功實現8英寸光芯片晶圓可規模化量產，並將芯片製造成本壓縮至傳統DUV方案的十分之一。A股中，納米壓印相關概念股主要有蘇大維格、美迪凱、利和興、晶方科技、京華激光、水晶光電等。（證券時報）