中國科技進步的現狀與未來展望

【環球時報：中國科技進步，路透社本不必焦慮】12月19日訊，文章稱，路透社近日“爆料”了一個所謂的中國“曼哈頓計劃”，稱中國科學家建造出了華盛頓多年來一直試圖阻止的東西：一臺極紫外（EUV）光刻機原型機。且不論通篇“知情人士透露”的報道是不是“煙霧彈”，其字裏行間對中國科技進步的焦慮顯而易見。這種焦慮恰恰讓世人看到，一種在西方時常出現的不健康心態。光刻機是重大技術裝備，被一些國家認爲是西方技術領先的“最後堡壘”，目前全世界只有荷蘭企業阿斯麥可以生產EUV光刻機。事實上，外媒不必進行各種猜測，中國深紫外（DUV）光刻機有官方公佈的進展。2024年9月，工信部在《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄》中公佈了國產DUV光刻機的技術參數：分辨率65納米、套刻精度8納米。國產光刻機未來的技術路線很清晰，就是朝著自主可控的方向持續努力。