未來知識產權保護制度的發展方向與展望

【國家知識產權局：2026年將加快推動《集成電路布圖設計保護條例》修改】1月23日訊，在今天國務院新聞辦公室舉行的新聞發佈會上，國家知識產權局相關負責人表示，2026年將加快推動商標法新一輪全面修改和《集成電路布圖設計保護條例》修改。加強地理標誌專門立法研究論證。完善人工智能等新領域新業態知識產權保護制度。不斷健全數據知識產權保護規則，進一步深化相關試點。（央視新聞）