SK海力士375層NAND技術革新與未來展望

【SK海力士將在年底前量產375層NAND “以鉬代鎢”有望助力性能提升】6月11日訊，據韓國科技媒體《THEELEC》報道，SK海力士已完成下一代V10系列375層3D NAND閃存生產驗證，正推進產線轉換，目標2026年透過現有工廠升級實現大規模量產，挑戰三星電子在超高堆疊技術的領先地位。此次技術迭代最大亮點在於金屬佈線層的材料革新，將部分字線從傳統鎢換爲鉬。隨著3D NAND向600層以上邁進，鉬材料有望成爲超高堆疊時代的核心關鍵。