光刻機技術進步與市場趨勢分析

【阿斯麥：首臺EXE:5200B High NA光刻機已發運】7月16日訊，阿斯麥(ASML.O)總裁兼首席執行官傅恪禮表示，“我們看到光刻機投資在晶圓廠總體投資中所佔的比重持續保持強勁，尤其是在DRAM（動態隨機存取存儲器）領域，而TWINSCAN NXE:3800E的推出也進一步鞏固了這一趨勢。與此同時，EUV光刻機的應用正在按計劃推進，其中包括高數值孔徑（High NA）系統。本季度，我們發運了首臺TWINSCAN EXE:5200B系統。”